晶圓清洗應該使用什麽樣的91视频网站免费機？
文章導讀：晶圓（Wafer）清洗分為濕法清洗和幹法清洗兩種方式，91视频网站免费屬於後者，主要是去除晶圓表麵肉眼看不到的表麵汙染物。晶圓的幹式清洗應該使用什麽樣的91视频网站免费機呢？
91视频网站免费機對晶圓清洗的流程就是先將晶圓放入91视频网站免费機的真空反應腔體內，然後抽取真空，達到一定真空度後通入反應氣體，這些反應氣體被電離形成等離子體與晶片表麵發生化學和物理反應，生成可揮發性物質被抽走，清潔晶圓表麵並使之具有親水性。那麽晶圓清洗所用的91视频网站免费機在選擇時有哪些該注意的地方呢？
一、腔體和托架要求
91视频网站免费晶圓是在千級以上的無塵室中進行的，對particle的要求極高，任何超標的particle存在，都會造成晶圓不可挽回的缺陷。所以設計91视频网站免费機的腔體首先一定要是鋁質，而不是不鏽鋼材質；擺放晶圓的托架滑動部分，要盡量采用不容易產生粉塵和被等離子腐蝕的材料；電極和托架方便拆卸，便於日常維護。
二、電極間距和層數，以及氣路分布要求
91视频网站免费機反應腔體內的電極間距和層數，以及氣路分布，對於晶圓處理的均勻性都重大的影響，這些指標都需要不斷試驗來優化。
三、電極板溫度要求
91视频网站免费晶圓的過程中，會產生一定的熱量累積，處於工藝的需要，維持電極板的溫度在一定範圍是必要的，所以通常會給91视频网站免费機的電極加上水冷。
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四、擺放小技巧
多層電極的91视频网站免费機產能比較高，可以根據需要每一層托架上擺放多片晶圓，比較適合於半導體分立器件、電力電子元器件專用4寸及6寸晶圓的光刻底膜去除等。
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