91视频下载安装污去除光刻膠的工藝與設備
文章導讀：91视频下载安装污是一種去除晶圓表麵光刻膠的新型幹式清洗方式，本文主要介紹在晶圓表麵光刻膠去除上使用的91视频下载安装污工藝和對應使用到的設備。
晶圓表麵光刻膠去除是晶圓製造過程的其中一個環節，是否去除徹底；是否對表麵有損傷等因素，都會影響後續的工藝進行，任何一個小缺陷都可能造成晶圓的整片報廢。傳統去除光刻膠選用的是濕化學方法，隨著工藝製程的不斷提高，濕化學方法的缺點愈發顯現出來，如反應不能精準控製，清洗不徹底，容易引入雜質等。而作為幹式方法的晶圓級封裝91视频下载安装污可控性強，一致性好，不僅可以徹底去除光刻膠和其他有機物，而且還可以活化和粗化晶圓表麵，提高晶圓表麵浸潤性。
91视频下载安装污的工作原理：在真空狀態下，壓力越來越小，分子間間距越來越大，分子間力越來越小，利用高頻源產生的高壓交變電場將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震蕩成具有高反應活性或高能量的等離子體，然後與有機汙染物及微顆粒汙染物反應或碰撞形成揮發性物質，然後由工作氣體流及真空泵將這些揮發性物質清除出去，從而達到等離子表麵清潔、活化等目的。如圖所示：
91视频官网APP用於晶圓表麵光刻膠去除的設備是晶圓級封裝91视频下载安装污設備PR240L，可用於晶圓製造中的表麵清潔、表麵活化、光刻膠去除、植球前清洗等各種工藝。91视频官网APP從2011年開始涉足半導體行業至今已有8年，在光刻膠去除、打線即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工藝方麵積累了較為豐富的91视频下载安装污經驗，合作客戶接近20家，91视频官网APP正努力成為半導體封裝領域的離子表麵處理工藝解決方案服務商。91视频下载安装污過的樣品包括：矽晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架等。
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